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我的電子帝國

第279章 下一代光刻機研發計劃

我的電子帝國 領航 2011 2021-04-04 22:18:39

  一位光學方面的專家發言道:“光源波長越短,傳播過程中越容易被透鏡吸收。下一代0.5微米光刻機,如果依舊使用高壓汞燈當光源,使用現在的透鏡組合就足夠了,頂多加工精度再提高一些。如果使用準分子激光做光源,透鏡系統就需要推倒重做,組合里至少增加兩枚玻璃透鏡,參數也要重新設計,還有鍍膜材質也要重新開發。這方面研究需要盡快提上日程,如果開發新透鏡組合,需要的計算量非常的大,使用普通計算機計算,需要...

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